三维扫描仪应用于产品质量控制
2023-11-08
质量控制是为确保所制造的零部件符合一组规定的质量标准或客户要求的过程。通常涉及测量、检查、测试或检验零部件上的各种特征，并将其与标准和规范（如CAD模型）进行比较，以确定是否符合要求。制造过程中的质量检测很重要，因为它保证了始终如一的产品质量，并帮助公司保持高制造标准。消费者是那...
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蔡司 VersaXRM 5 Insight X 射线显微镜，三维成像新未来
VersaXRM5Insight采用全新设计的架构，兼具大视野成像、大样品高分辨率成像与快速扫描成像能力，成像效率显著提高，广泛适用于材料研究，地球科学，电子半导体和生命科学等应用场景。兼顾大成像视野和高分辨率更灵活最大成像视野≥95mm，满足大尺寸样品的整体三维成像需求高达500nm的空间分辨率大工作距离RaaD（大样品）下的高分辨率成像平板探测器和物镜探测器切换设计灵活，可调工作距离大更适配大尺寸样品、复杂样品以及快速原位等多种实验装置▲500nm线对清晰可见双快速扫描成...
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全新蔡司材料共聚焦显微镜 LSM 910，破解五大金属材料表征难题
在金属材料研发质检、生物医用金属、海洋防腐金属、微生物腐蚀等交叉领域中，表面形貌、粗糙度、金相组织、断口特征、腐蚀磨损行为，以及金属-微生物界面附着、生物膜生长、微生物诱导腐蚀，都是核心评价指标。尤其金属与微生物交叉研究中，传统手段难以原位观测生物膜附着、界面微观演变，人工统计误差大、定量难，亟需智能化、一体化表征方案。全新蔡司材料激光共聚焦显微镜LSM910，融合高分辨成像、三维重构、AI智能量化分析能力，不仅覆盖金属常规形貌、金相、断口、腐蚀磨损，更适配金属-微生物界面生...
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材料表征“多面手” | 蔡司关联系统多模态解析石墨烯
2004年，石墨烯在一张透明胶带上被“撕”了出来，这一突破性的发现打破了二维晶体无法稳定存在的传统理论，开启了二维材料新纪元。作为由单层碳原子组成的六边形蜂窝状二维材料，石墨烯不仅具备超高的机械强度以及优异的电导率、热导率、光学性能，还拥有独特的量子霍尔效应、界面效应等理化特性。凭借得天独厚的性能优势，石墨烯在AI算力、5G基站、智能手机等的散热方案中扮演重要角色，同时深度赋能锂电池、固态电池等新能源领域，在6G通信、量子芯片、柔性电子、航空航天、生物医疗、功能纺织、防腐涂层...
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半导体失效分析新利器！蔡司 X 射线显微镜如何成为行业“火眼金睛“？
随着半导体迈入3D集成与纳米制程时代，传统检测技术面临挑战！蔡司X射线显微镜（XRM）在几何+光学两级放大的基础上，实现450nm超高分辨率，支持300mm晶圆0.8μm体素高分辨成像。如今，蔡司XRM技术进一步升级，凭借亚微米级检测精度和多模态联用技术破局，为3D封装、异质集成等场景提供全新的解决方案。应用场景✓3D异质封装：透射式3D成像，直击内部缺陷✓芯片制造工艺检测：亚微米级分辨率捕捉细微瑕疵✓失效快速溯源：多模态技术结合，减少“盲测”成本技术优势检测效率与质量双在线...
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客户成就｜蔡司助力分钟级大面积亚稳合金无损伤EBSD样品制备
在先进材料研究中，显微组织表征是理解材料性能、揭示失效机制和优化制备工艺的重要基础。电子背散射衍射技术（EBSD）能够提供晶粒取向、晶界类型、织构、位错相关信息等关键数据，被广泛应用于钢铁材料、高熵合金、航空航天材料以及失效分析等研究场景。然而，对于热敏亚稳合金而言，高质量EBSD样品制备始终是一项挑战。这类材料往往含有高密度位错、纳米孪晶或亚稳相结构，在机械抛光、电解抛光或传统激光加工过程中，极易受到热输入、机械损伤或表面污染的影响，导致真实微观组织被破坏，从而影响后续EB...
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蔡司工业检测显微镜核心优势：精密测量与缺陷检测解析
蔡司工业检测显微镜是工业精密制造、来料质检、成品验收、工艺优化的核心光学检测设备，主要应用于五金精密件、电子元器件、模具结构、镀层涂层、新材料表面等领域。相较于普通民用显微镜，它具备成像清晰、测量精准、抗干扰能力强、适配工业工况等特点，同时兼顾微观精密测量与细微缺陷筛查双重功能，可有效解决人工目视检测误差大、细微缺陷漏检、尺寸判定不精准等行业痛点，为工业化精密质检提供可靠支撑。一、高清光学成像，适配微观检测场景蔡司工业检测显微镜搭载专业工业光学成像系统，成像分辨率高、画面还原...
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蔡司正置显微镜：科研与临床实验室的高精度成像优选
蔡司正置显微镜是生命科学科研、临床医学检测领域的光学成像设备，依托百年光学技术积淀，融合精密机械结构与智能成像系统，具备成像清晰度高、色彩还原真实、系统稳定性强的核心优势。适配多样样品观测需求，可兼顾基础实验筛查与高精度科研分析，广泛应用于细胞研究、病理诊断、微生物检测等场景，是现代科研与临床实验室标准化建设的核心优选设备。一、核心光学与优势1、高清光学成像体系。蔡司正置显微镜搭载专业级光学镜头与光路设计，可有效抑制成像色差与畸变，实现全视场均匀清晰成像。相较于普通显微设备，...
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