徕卡发布应用于电子半导体行业的显微镜

简要描述：徕卡发布应用于电子半导体行业的显微镜DM3 XL 检验系统提供一种*的宏观物镜，视场达到 35.7 mm，比常规扫描物镜宽敞 30%。操作员可轻松快速地扫描高达 6" 的大型组件并迅速检测缺陷。边缘或晶片中心显影不足的区域以及不均匀的径向膜厚度均清晰可见。

产品咨询联系我们

产品分类

详细介绍

凭借宽敞 30% 的视场快速检验 6" 晶片

徕卡发布应用于电子半导体行业的显微镜DM3 XL 检验系统提供一种*的宏观物镜，视场达到 35.7 mm，比常规扫描物镜宽敞 30%。操作员可轻松快速地扫描高达 6" 的大型组件并迅速检测缺陷。边缘或晶片中心显影不足的区域以及不均匀的径向膜厚度均清晰可见。

针对各种样品尺寸类型，DM3 XL 系统可提供不同的载物台插件选择，例如金属插件、晶片支座或掩模支座。操作员可在载物台上轻松定位样品和感兴趣区域。150 mm x 150 mm 载物台帮助用户实现快速的粗略或精准载物台定位。

舒适的工作条件可实现更高的效率和更上乘的质量，因此徕卡公司设计出一套高度方便用户的操作理念。凭借易于操作的控件，用户可在切换对比技术或照明时，将双眼专注于样品之上，双手操作显微镜。借助集成 LED 照明，DM3 XL 系统可提供恒定的色温，并能够在所有照明强度下提供真彩色成像。

选择软件模块和适用于高效、高品质分析和记录的显微镜摄像头，即可轻松升级。

产品咨询